最近做一个片剂的有关物质检测时由于选择波长较低,主峰进样量太大,超出检测器检测范围,峰宽太宽,进空白辅料时在主峰出峰时间范围内和拖尾处各有一个杂峰,而原料在同样色谱条件下进行各种破坏都没有检测到主峰附近有干扰峰,这种情况下是必须把辅料峰和主峰分开吗?还是由于确定是辅料峰,不考虑了。想把主峰与辅料峰分开挺难的,郁闷中
必须。
可以考虑更换辅料,先看看是哪个辅料出峰,然后换几个其他厂家产品,或者干脆换另一种代替
主峰进样量为什么那么大,能减少吗?如果主峰量少点,再调调条件,应该还是有希望分开吧
如果有图有数据会更好判断。
主峰进样量大是因为一个主要杂质相应值太小,变换比例以及更换不同离子对试剂都不能把辅料峰与主峰分开,看来只能变换不同厂家或用其他辅料代替了
反复多进几针空白辅料样品,确认该辅料峰不是污染或残留引起的,如依然存在,只能更换辅料或变更检测方法,无比排除辅料峰干扰。
必须。
可以考虑更换辅料,先看看是哪个辅料出峰,然后换几个其他厂家产品,或者干脆换另一种代替
主峰进样量为什么那么大,能减少吗?如果主峰量少点,再调调条件,应该还是有希望分开吧
如果有图有数据会更好判断。
主峰进样量大是因为一个主要杂质相应值太小,变换比例以及更换不同离子对试剂都不能把辅料峰与主峰分开,看来只能变换不同厂家或用其他辅料代替了
反复多进几针空白辅料样品,确认该辅料峰不是污染或残留引起的,如依然存在,只能更换辅料或变更检测方法,无比排除辅料峰干扰。